免费注册硅溶胶深圳硅溶膠拋光液廣州氧化硅拋

免费注册送38体验金平台 | 2019-12-02|浏览:106

1.分散性好、不結晶。2.粒徑分布廣泛:5-100nm。3.高純度(Cu2+含量小于50ppb),有效減小對電子類產品的沾污。

4.經特殊工藝合成的化學機械拋光液,納米顆粒呈球形,單分散,大小均勻,粒徑分布窄,可獲得高質量的拋光精度。5.適合與各種拋光墊、合成材料配合拋光使用。

6.PH、粒徑、穩定離子等可以根據客戶定制(10-150nm)

1.高拋光速率,利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達到高速拋光的目的。(可以生產150nm)。

2.高平坦度加工,本品拋光是利用SiO2的膠體粒子,不會對加工件造成物理損傷,達到高平坦化加工。